洗浄装置
Cleaner
弊社のウエハー洗浄装置は、自社のウエハー加工プロセスから得られたノウハウを基に設計した最高レベルの洗浄能力を実現した製品です。
酸・アルカリ等のケミカル洗浄や、地球に優しい廃液処理対策として化学活性種を利用したオゾン水、その他ドライ＆ウェット洗浄を組み合わせたプロセス装置の開発・製作を行っております。
KC-150／200／300
Kシリーズ
進化する次世代ウェットプロセス装置
洗浄、塗布、現像、エッチング、剥離と全てのウェットプロセスをラインナップ当社のスタンダードモデルです。
WSC-WA200
RCA 2チャンバ
酸・アルカリ どちらも使用可能な小型RCA洗浄装置
酸チャンバーでSPM、DHF、アルカリチャンバーでAPMを使用可能です。
WSC-TA200
RCA 3チャンバ
枚葉式フルＲＣＡ洗浄
金属イオン、パーティクル、酸化膜除去と様々な用途で精密洗浄が可能な当社フラグシップモデルです。
WS-200
微細シリコン貫通電極用
洗浄装置
減圧環境下での薬液処理が可能。
WSC-A300F
300㎜モデル
FOUP・FOSB対応モデル
裏面ベベル洗浄やRCA洗浄など洗浄用途に合わせて製作可能です。
WSCR-A200E
ドライ&ウェット
ドライ&ウェット 融合プロセス洗浄
ドライ洗浄とウェット洗浄の組み合わせで、効果的に洗浄を行います。
WSC-A200WR
水中ローダ付
研磨後洗浄のスタンダードプロセス
研削研磨したウエハを待機中水中保管し、スラリなどの固着を防止します。
WSC-WA150 NM1S
両面スクラブ
遠心力＋重力を利用した縦型両面同コンパクトスクラバー
縦型スクラブ構造により効率よくパーティクルを除去します。
MSC-200S
反転付マスク洗浄
ワーキングマスク洗浄の決定版
硫酸過水によりレジストを簡単除去、自動で両面洗浄が可能です。
MSC-700
大型洗浄
□700㎜まで対応可能な角型基板洗浄機
硫酸過水やアンモニア過水、その他物理洗浄機能を搭載可能です。
WSC-AW200
多段式
多段式チャンバーによる薬液リサイクル機能付き洗浄装置
上下2段式チャンバー構造により薬液とリンス排水を分離し、薬液の循環リサイクルが可能です。
SCU150/300
縦型両面同時
コンパクトスクラバー
Siウエハやガラスウエハ等、多種多様なワークに対応。
