現像装置
Developing
スプレー現像やパドル現像（有機／アルカリ対応）
小径サイズから□700mm対応の大型装置までラインナップしています。
チャック交換によりウェハ／マスクの切り替えやサイズ切替が簡単に行えます。
各種フォトレジスト現像、EBレジスト現像、ドライフィルムレジスト現像など
お客様のご要望に応じて設計可能です。
KD-150／200／300
Kシリーズ
進化する次世代ウェットプロセス装置
洗浄、塗布、現像、エッチング、剥離と全てのウェットプロセスをラインナップ当社のスタンダードモデルです。
WRCD-A200
コータデベロッパ―
コーターとデベロッパーのオールインワンモデル
HMDS・塗布・プリベーク・現像・ポストベークとこれ一台で全て行えます。
WSD-700
大型現像
□700㎜まで対応可能な角型基板現像装置
特殊ダブルノズルにより大面積を均一良く現像します。
