KMX 株式会社カナメックス  エレクトロニクス事業部

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半導体前工程/先端実装/MEMS/FPD分野におけるフォトリソグラフィ関連等の
ウエットプロセス装置の設計製作を致します。

洗浄
洗浄
  塗布
塗布
  現像
現像
  エッチング
エッチング
  剥離
剥離

■ 新着情報

2017年 1月    縦型両面スクラブ洗浄装置 リリース

2016年 12月   セミコンジャパン2016出展

2015年 4月    薬液リサイクル機能付 Siスピンエッチング装置

2014年 3月    大型角基板対応スピンコータ・ベーク装置 リリース

2013年 10月    セミコンジャパン2013 多機能型コーター及び
            SiC用自動スピン洗浄装置の実機を出展

2012年 12月    セミコンジャパン2012 有機溶剤対応プロセッサー出展。


2012年 8月    テスト用クリーンルーム リニューアル

2011年 4月   京都大学 次世代低炭素ナノデバイス創製ハブ拠点
           WEBサイトにKシリーズが掲載されました。


2010年 5月    Kシリーズ SiC用洗浄装置 リリース

2009年 9月16日 半導体産業新聞の洗浄装置特集に記事が掲載されました。

2009年 3月21日 研究開発&少量生産向け 拡張型スピンプロセッサー リリース

2008年 9月24日 半導体産業新聞に記事が掲載されました。

2008年 7月11日 日本経済新聞に記事が掲載されました。












新製品 新製品

自動縦型両面スクラブ洗浄装



Siエッチング装置
薬液リサイクル機能付
Siスピンエッチング装置




大型コータ
大型角基板対応
スピンコータ・ベーク装置





Kシリーズ
拡張型 枚葉式スピンナー

Kシリーズ
※デモ機有ります


省スペース型 基板スピン洗浄装置 マルチチャンバー スピンプロセッサー ツインアームロボット ドライブレード/ウェットブレード FOUP対応 お問い合わせ
 TEL  046-270-7373
 FAX  046-270-7778

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