研究開発＆少量生産向け
拡張型スピンプロセッサー
処理機能の組み合わせカスタマイズ自由
高性能な基本ベースと簡単レトロフィット接続により
将来的な機能UPも低コストで行えます。 |
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 KC-200 |
特 徴
①コンパクト設計による省フットプリント（740W×1100D×1800H）
洗浄から乾燥まで一台で行えます。
②メンテナンス性（脱着が容易）と洗浄、乾燥性能に優れたスピンチャンバー。
気流制御によりミストの再付着を防止します。
③洗浄目的に応じてスクラブ、メガソニック、2流体の何れか1アームを標準装備。
最大で2アーム仕様が可能です。
④スピンチャックの交換で様々な基板に対応
ウエハφ2～8″、マスク□4～9″、ディスクφ1.8″2.5″
その他特殊基板にも対応可能（極薄ウエハもご相談下さい）
ウエハ洗浄
φ4″GaAs
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マスク洗浄
6025 |
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ディスク洗浄
φ2.5″ |
⑤ケミカル対応が可能。（オプション）（
ケミカル供給ユニット、ケミカルノズルを追加し（後付け可能）、
各種ウエットプロセス（現像、エッチング、剥離）装置としてもお使い頂けます。
 
薬液供給ユニットと
ケミカルアームを追加 |
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レジスト残渣除去 |
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Cu、Tiエッチング |
⑥オートローダーの後付けが可能（オプション）
研究開発機から生産機への移行が低コストでスムーズに行えます。
アプリケーション一例
ウエハ／マスク洗浄（有機物除去、パーティクル除去、付着物除去 等）
各種工程間洗浄（CMP後洗浄、バックグラインド後、ダイシング後洗浄 等）
ＭＥＭＳ用途
WLCSP用途
化合物半導体用途（GaAs、InP、SiC 等）
ディスク・スタンパー・ナノインプリント用途
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